九州大学中央分析センターでは平成19年より毎年定期的(年8回程度）に分析基礎セミナーを開催しています。これは機器分析の原理・基礎知識を習得してより効果的に分析機器を使用していただくことを目的とするものです。今年度のセミナーは、基本に立ち返り、原理をよく理解してより良いデータを取得し、正しい解釈ができることを目指します。今回は、構造解析に有用な分光分析について基礎から実用まで幅広く知識が得られる内容です。
案内ポスターはこちら。学外の方はこちらの参加申込書をご利用ください。

◆第119回 分析基礎セミナー「入門機器分析【3】 X線回折の基礎と応用」◆
【日時】　2018/5/24（木）　13:00-17:00
【場所】　九州大学伊都キャンパス・工学部第2講義室（西講義棟2階）
【主催】　九州大学中央分析センター
【共催】　九州大学ナノテクノロジープラットフォーム
【協力】　株式会社リガク
【内容】

13:00-14:30　基礎から学ぶX線回折
　　X線とは？から始まり、ミラー指数や結晶構造、汎用的なX線回折装置の構成、そして
　　粉末X線回折測定の原理とノウハウについて、基礎より分かりやすく紹介します。
 
14:40-15:50　ここまでできるX線回折 ~粉末X線回折の応用例~
　　In-situ測定、微小部測定、結晶子サイズ・粒径解析、リートベルト法を用いた評価など、
　　粉末X線回折測定の基本的な内容から最新の応用例までを解説します。
 
16:00-17:00　ほかにもできるX線回折 ~薄膜・残留応力・小角散乱測定~
　　粉末X線回折以外の測定法である、薄膜材料の高感度測定、反射率測定、残留応力
　　測定、小角散乱測定について、基礎とその解析を分かりやすく紹介します。