イオンビームミリング法は、イオン銃から放出されたままの、直径約1mm程度のアルゴンブロードイオンビームによって、試料表面の原子を表面からはじき出す現象（スパッタリング）を用いて、試料表面の研磨傷の除去や多層膜の断面試料作成を行う技術である。走査電子顕微鏡用の前処理装置として用いる。本装置のイオンガンは3電極方式のペニング形を採用、歪のない平滑な断面作成が可能。

[最大ミリングレート（参考値）]　約100μm/h
[最大試料サイズ] 20mm(W)×12mm(D)×5mm(H)